面膜空白

光掩模坯料是光掩模的基础材料,其在半导体光刻工艺期间用作电路的图案化模板。遮光层形成在基板为合成石英的掩模坯料的表面上。

 

Shin-Etsu取代了用于光掩模坯料的传统光屏蔽层的铬(Cr),开发了新的制造工艺,使用尖端的钼硅二元(OMOG:玻璃上的不透明MoSi)作为光屏蔽掩模。空白层。信越凭借其卓越的蚀刻特性,建立了这种最先进的光掩模坯料的量产技术。信越公司的掩模坯料受到设备制造商的高度评价,被认为是尖端半导体制造工艺的重要材料。

此外,信越公司还为ArF和KrF提供了衰减的相移光掩模坯料,可以满足客户的需求。

特征:

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