平版印刷常见问题

Shin-Etsu能够包装从夸脱到10升NowPack的各种尺寸。

所有Shin-Etsu光刻胶均在日本Isobe和Noaetsu生产。我们的助粘剂包装在Phoenix中。

信越作为市场领导者仍然对旧技术感兴趣。可以调整现有材料的粘度(膜厚)以适合您的应用需求。如果有任何新旧应用,请联系销售代表。

Shin-Etsu提供了与Shin-Etsu和其他供应商提供的面漆兼容的ArF光刻胶,以及可以在没有面漆的情况下使用的光刻胶,这些面漆在浸入过程中具有防止浸出的屏障。无面涂层的光致抗蚀剂用于前沿半导体的大批量生产。我们的技术可实现最高的扫描速度,同时将可能导致浸没缺陷和/或曝光工具损坏的添加剂浸出降至最低。请联系销售代表以寻求帮助。

通常,我们的材料与用于预湿,去除边珠(EBR)或洗碗的标准半导体溶剂系统兼容。在某些情况下,例如多层系统或栅栏,请注意不要在与光刻胶相同的旋转杯中使用这些材料。请联系销售代表以寻求帮助。

是的,信越为各种包装应用水平生产了各种各样的材料。请联系销售代表以获取详细信息。

您在寻找光致抗蚀剂或其他光敏材料,助粘剂,还是先进的多层材料,例如含硅的硬掩模或电介质?信越提供许多用于宽带,i-line,DUV和ArF应用的光刻胶和辅助产品。波长只是一个考虑因素。其他问题包括特征尺寸,曝光工具条件,基材和厚度要求。请联系销售代表详细信息和帮助。

这些是受控文件,因此请联系销售或客户服务代表。