深紫外光致抗蚀剂

Shin-Etsu不断增加我们的光刻胶产品线;请打开“深紫外线路线图”(PDF 115KB)以检查我们的前进方向。

信越MicroSi的SAIL–G系列提供:

高分辨率性能

耐腐蚀

可用热流

DUV专业应用

信越MicroSi为特殊应用提供厚和薄的248nm准分子DUV抗蚀剂。这些深紫外光阻剂可配制成超高分辨率或极高的纵横比。

SEPR 1032

信越MicroSi的SEPR I032 DUV抗蚀剂专为高分辨率,直侧壁轮廓而设计,在4 µm厚的UV光刻胶中,印刷能力小于250 nm的隔离沟槽和半密集线。这种紫外线光致抗蚀剂广泛用于TFH工业中的NiFe和Cu基板。

 

1051年9月

信越MicroSi的SEPR I801 / I803 DUV光刻胶具有极高的分辨率,在300nm薄膜UV光刻胶中具有小于65nm的隔离线和密集线的印刷能力。该UV光致抗蚀剂被广泛用于半导体和TFH读取器应用中,这些应用在深度UV干蚀刻环境中要求高度复杂的抗蚀刻性能。