面膜空白

mask_pic光掩模坯料是光掩模的基础材料,其在半导体光刻工艺期间用作电路的图案化模板。遮光层形成在基板为合成石英的掩模坯料的表面上。

Shin-Etsu取代了用于光掩模坯料的常规光屏蔽层的铬(Cr),开发了新的制造工艺,将尖端的钼硅双元(OMOG:玻璃上的不透明MoSi)用于光屏蔽膜。空白层。信越凭借其卓越的蚀刻特性,建立了这种最先进的光掩模坯料的量产技术。信越公司的掩模坯料受到设备制造商的高度评价,被认为是尖端半导体制造工艺的重要材料。

此外,信越公司还为ArF和KrF提供了衰减的相移光掩模坯料,可以满足客户的需求。

特征:

  • 我们使用自己的石英基板作为面罩毛坯,这是在合成石英领域精制的高质量材料。
  • 我们在掩模坯料上涂覆的化学放大抗蚀剂也是由我们自己针对半导体光刻胶的杰出技术开发的。
  • 我们提供多样化的产品线,结合了我们自己的石英基板,我们自己的化学放大型抗蚀剂和最先进的成膜技术。

要获取有关Shin-Etsu MicroSi石英基板的信息,请通过以下方式与我们联系: [email protected] 或(888)642.7674。

COVID-19声明:
此时,Shin-Etsu MicroSi,Inc.已打开并正常运行。我们将继续密切监视局势,并遵循公共卫生官员,疾病预防控制中心,世界卫生组织以及地方和美国政府的指导,迅速采取行动以采取适当的预防措施。我们可能会调整正常的操作程序以支持社会疏离准则。我们将继续向您通报任何进展。